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  • 黄桑希兰

    黄桑希兰(英文名:Jennie S. Hwang,1949年-),材料科学家,美国国家工程学院首位华裔女院士。她的专业研究领域包括芯片封装的材料与制程。

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    中文名: 黄桑希兰 中文名: 黄桑希兰
    英文名: Jennie S. Hwang 籍贯: 台湾
    出生地: 中国大陆 性别:
    国籍: 美国 出生年月: 1949年
    职业: 材料科学家 毕业院校: 国立成功大学
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    简介/黄桑希兰 编辑

      黄桑希兰,美国工程院首位亚裔女性院士,美国发展表面黏著技术制造领域树立权威,对微电子和电子材料技术研发及管理的生涯表现卓著 

    桑希兰于1949年出生于中国大陆,因为中国政权的易帜而随亲人来台。她的祖父与父母亲都曾担任大学教授。她在台湾毕业于北一女中及国立成功大学化学系。1976年取得哥伦比亚大学材料工程博士,是哥伦比亚大学第一位女性材料博士。此后历任凯斯西储大学材料系教授、工学院杰出教授、学校董事,H-Technology集团总裁。1998年获选为美国国家工程学院首位华裔女院士。。

    黄桑院士除了学术界及企业界的杰出成就以外,她一直维持着从中学开始,就重视妆扮及穿着优雅的习惯。她也喜好舞蹈及歌唱。黄桑与夫婿育有一子一女。 [1]

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    参考资料
    [1]^引用日期:2011-11-06

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