二氯二氢硅
用于制造半导体的无色有毒气体
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二氯二氢硅（英文名：Dichlorosilane，DCS），又称二氯硅烷、二氯甲硅烷等，是一种无色有毒气体，是外延法工艺中的一种硅源，用于制造半导体。[1][2]其化学分子式为SiH2Cl2，[1]CAS号为4109-96-0，EC号为223-888-3，分子量为101.01。[2]其有特殊气味，熔点为-122℃，沸点为8.3℃，相对密度（水=1）为1.26，相对蒸气密度（空气=1）为3.48，纯度大于99%。[2][1]
二氯二氢硅可溶于苯、乙醚等多数有机溶剂，[2][1]与卤素及其他氧化剂会剧烈反应。其易燃，自燃点为100℃，[1][3]与空气、氯或溴接触会发生燃烧，加热和燃烧时，分解生成氯化氢有毒和腐蚀性烟雾，对大气有较大的污染，与水或潮湿空气反应，生成氯化氢，因此对水体也会造成一定程度的污染。[1][2]其储存于阴凉、通风仓内，远离火种、热源。[4]二氯二氢硅的纯化方法包括精馏纯化、歧化反应和吸附络合。[5]
二氯二氢硅主要用于芯片制造过程中的薄膜沉积（如外延膜、碳化硅膜、氮化硅膜、氧化硅膜和多晶硅膜等），用于生产逻辑芯片、存储芯片、模拟芯片和其他类芯片，也可用于合成硅基系列前驱体和聚硅氮烷等。[1]2026年1月7日，中华人民共和国商务部公布对原产于日本的进口二氯二氢硅发起反倾销立案调查。[1]同年1月8日，金宏气体在互动平台表示，电子级二氯二氢硅为公司可转债募投项目“新建高端电子专用材料项目”规划产品之一，已进入试生产阶段。[6]