离子束辅助沉积技术

离子束辅助沉积技术
离子束辅助沉积(lon Beam Assisted Depositon 或Ion Beam Enhanced Deposition,简称IBAD或IBED)，是把离子束注人与气相沉积镀膜技术相结合的复合表面离子处理技术，也是离子束表面处理优化的新技术。这种复合沉积技术是在离子注人材料表面改性过程中，使膜与基体在界面上由注人离子注人引发的级联碰撞造成混合，产生过渡层而牢固结合。因此在沉积薄膜的同时，进行离子束轰击便应运而生。因此它是离子束改性技术的重要发展，也是离子注人与镀膜技术相结合的表面复合离子处理新技术。

正文

优点：
1.离子束辅助沉积不需在真空工作室中进行气体放电以产生等离子体，可以在< 10Pa
中镀膜，气体污染减少。