林本坚
美国国家工程学院院士
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历史版本
林本坚（Burn J. LIN）[1]，男，1942年出生于越南，中国台湾人[4][5]，祖籍广东潮汕，[6]美国国家工程院院士，台湾地区中央研究院院士，台积电原研发副总经理，台湾清华大学、台湾交通大学、台湾大学特聘讲座教授，[7]清大—台积电联合研发中心主任。[8]
1963年，林本坚获得台湾大学电机工程学系学士学位。[6]1970年，林本坚获得美国俄亥俄州立大学电机工程学博士学位。[6]同年，林本坚进入IBM公司的沃森研发中心，开启在光刻技术领域的钻研。[4][6]1986年，林本坚开始研究浸润式微影技术。[6]1992年，林本坚从IBM公司提前退休，创办了自己的公司Linnovation。[4]2000年，林本坚加入台积电公司。[4][6]2002年，他研究出以水作为介质的193纳米浸润式微影技术（Immersion Lithography），改变了半导体产业以干式微影作为主流的传统。[9]2008年，林本坚当选美国国家工程院院士。2014年，林本坚成为台湾地区中央研究院院士。[9]2015年年底，林本坚从台积电退休。[9]2021年，林本坚出任台湾清华大学半导体研究学院院长。[8]
林本坚所开拓的浸润式微影（也称光刻）方法，革新了集成电路的制程，使先进半导体芯片的特征尺寸能持续缩减为细微纳米量级。[2]另外，他还曾带领团队创造出许多领先全球的技术，包括1.25微米、1微米、0.75微米、0.5微米、0.35微米的微影技术。[10]2018年9月8日，林本坚获得未来科学大奖数学与计算机科学奖。[9]