二极溅射镀膜

二极溅射镀膜
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二极溅射镀膜是指在真空环境中利用粒子轰击靶材产生的溅射效应，使得靶材原子或分子从固体表面射出，在基片上沉积形成薄膜的过程。属于物理气相沉积（PVD）制备薄膜技术的一种。也可称为直流二极溅射镀膜，二极阴极溅射镀膜。

原理简介

在真空设备中通入惰性气体（一般为氩气Ar），在两极加上一定电压使其电离产生等离子体，靶材表面加上一定的负偏压，使得等离子体中的正离子飞速向靶材表面运动，撞击靶材表面使其产生溅射效应产生靶原子，靶材原子在真空室中自由运动，于工件表面沉积，从而形成薄膜。实际上是靶材由固相变成气相再变回固相的过程。
溅射效应示意图
优点：二极溅射镀膜最大优点就是结构简单，控制不困难，三个主要工艺参量是工作压力P（一般以氩[yà]为工作气体），电压U，电流I。这三者只要有两个参数固定，第三个也就固定了，操作时重复性很好。如果操作得法，则溅射镀膜均匀区可达到靶直径的75%，膜厚偏差范围为 ±5 %～±10%。