拓荆科技股份有限公司

2010年在辽宁成立的公司
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拓荆科技股份有限公司（以下简称：拓荆科技），2010年4月成立，位于辽宁省沈阳市浑南区水家900号，是一家从事半导体专用设备研发、生产、销售与技术服务的国家高新技术企业，法定代表人为刘静。[1][4][5]
拓荆科技主要产品包括PECVD（等离子体增强化学气相沉积）、ALD（原子层沉积）、SACVD（次常压化学气相沉积）、HDPCVD（高密度等离子体增强化学气相沉积）等，应用于集成电路晶圆制造等高端技术领域。[1][4][5]2022年4月20日，拓荆科技股份有限公司（688072）正式登陆上海证券交易所科创板，交易金额22.73亿元。2023年12月，拓荆科技被认定为国家企业技术中心。[6][7]截至2024年11月15日，公司共有员工1253人。公司在沈阳、上海、北京、海宁、美国及日本均设有分支机构，并拥有现代化办公大楼及高等级洁净厂房。[8]
2022年4月28日，拓荆科技获得全国五一劳动奖状。[9]公司在2023年新经济企业TOP500榜单中排名第156位。[2][3]

发展历程

2010年04月28日，拓荆科技股份有限公司成立。[6][1]