武汉太紫微光电科技有限公司是2024年5月31日成立于湖北省武汉市的科技公司,注册资本为200万元,法人代表为朱明强。[2][1] 2024年10月,武汉太紫微光电科技有限公司在中国率先攻克合 成光刻胶所需的原料和配方,中国芯片制造关键原材料取得瓶颈性突破。[3][4]
发展历程
武汉太紫微光电科技有限公司(以下简称为“太紫微公司”)成立于2024年5月31日,由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立。太紫微公司致力于半导体专用高端电子化学品材料的开发,并以新技术路线为半导体制造开辟新型先进光刻制造技术,同时为材料的分析与验证提供最全面的 手段。[3][2][1]