BOE（Buffered Oxide Etch）[1]，缓冲氧化物刻蚀液[2]，由适量比率HF、NH4F、H20配置的溶液，也称为缓冲氟化氢 (BHF )[3]，它的主要用途是蚀刻二氧化硅 (SiO2) 或氮化硅 (Si3N4) 薄膜[1]。 化学特性
Buffered Oxide Etch，BOE就是buffer oxide etch， B.O.E 缓冲蚀刻液 BOE是HF与NH4F依不同比例混合而成。6:1 BOE蚀刻即表示49%HF水溶液：40%NH4F水溶液=1：6（体积比）的成分混合而成。刻蚀速度约10nm每秒。HF为主要的蚀刻液，NH4F则作为缓冲剂使用。利用NH4F固定〔H+〕的浓度，使之保持一定的蚀刻率。HF会浸蚀玻璃及任何含硅石的物质，对皮肤有强烈的腐蚀性，不小心被溅到，应用大量水冲洗。 