喷嘴用来供应光刻胶和各种有机溶剂，每一个喷嘴对应一种材料，如图1 所示。在整个光刻工艺中，除了曝光，其余所有的步骤都是在匀胶显影机中完成的。匀胶显影机的主要工艺单元分别有晶圆表面增粘处理，光刻胶旋涂单元，边缘曝光，显影单元等，这些单元的装置都离不开喷嘴。 正文
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晶圆表面增粘处理:
有些晶圆表面是亲水的，这不利于光刻胶的涂覆。在这种情况下，通常首先对晶圆表面做增粘处理，这是在匀胶显影机的增粘单元中进行的。在真空腔中装入晶圆后封闭腔体。晶圆在腔体中加热到一定的温度，同时通过喷嘴将六甲基二硅胺（HMDS）气相引入或直接喷淋在晶圆表面，使其直接由亲水性变成疏水性。 